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中国芯片终将崛起由“中国制造”转型为“中国智造”，这句话相信很多人都有所了解，在技术壁垒不断加码的今天，拥有完备的制造业产业链已经成为了门槛，而掌握研发和生产的关键技术才决定国家发展的上限。

溅射靶材于1852年首次发现，并于1920年作为一种薄膜沉积技术得到发展，它是一种物理气相沉积机制，是一种古老的工艺，但在现代技术和制造中具有多种用途。溅射靶材是物理气相沉积薄膜镀膜所必需的原材料。溅射沉积，或称溅射镀膜，是PVD技术之一。在涂覆过程中，由于高能粒子轰击靶材，溅射靶材粒子从固体溅射材料中喷射出来。这是一种将金属或其他材料的薄膜沉积到各种表面上的电子过程。

靶材和光刻胶一样，全球产能多集中在美日韩德手中，基本上以低端靶材国内自给，高端靶材依赖进口模式为主。为了解决这个问题，中国于2005年出台了靶材政策，并将部分靶材项目纳入国家863计划。2018年，又列入了35个关键技术项目。2020年，工程院院士何季麟带领团队取得了高端靶材制造技术的突破。

可以说，何季麟院士和研发团队取得的成功研究，对我国的靶材产业来说，是历史性的跨越。因为这意味着，我国已经具备了建设靶材制备技术体系的能力，并可以实现将制备技术用于商用的应用，在芯片、显示屏和光伏领域，威胁我国许久的“卡脖子”难题终于能够破局。

溅射靶材市场由促进其增长和需求的几个关键因素推动。对智能手机、平板电脑、笔记本电脑和可穿戴设备等电子设备的需求不断增长，是溅射靶材市场的重要驱动力。溅射靶材对于半导体器件、集成电路和其他电子元件制造中沉积薄膜至关重要。此外，LCD（液晶显示器）、OLED（有机发光二极管）和柔性显示器等显示技术的发展极大地推动了对溅射靶材的需求。这些材料对于沉积用于生产具有增强性和效率的高分辨率显示器的薄膜至关重要。

 著名的Agar Scientific英国企业，作为一家领先的国际供应商，Agar Scientific拥有40多年的经验，专门从事耗材和设备。溅射靶材可用于大多数众所周知的溅射镀膜机。在大多数情况下，使用箔片靶或圆盘靶，一些较旧的仪器使用实心镀靶。圆盘靶材是普通的靶材。箔靶和环形靶安装在铝制背板上。

溅射靶材的用途

1、微电子领域

在各种应用行业中，半导体行业对靶溅射膜的质量要求非常严格。例如，硅片制造商的要求是高纯度、大尺寸、细颗粒和低偏析，因此需要更好的微观结构。

2、显示器

近年来，平面显示器对以阴极射线管为主的计算机显示器和电视产生了很大的影响，因此也带动了靶材的技术和市场需求。目前，飞机显示器的薄膜大多是溅射形成的。溅射用靶材主要有In₂O₃、SnO₂、MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等。

3、存储用

根据存储技术的高密度和大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻膜材料。一般来说，溅射靶材制备的相关膜产品包括硬盘、磁头光盘等。

当然，溅射靶材的用途不仅可以用于高温耐腐蚀、耐磨材料、装饰用品等行业，无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示、工件表面涂层等方面，都广泛应用于溅射靶材制备的各种溅射膜材料。

Type 1:  Agar coaters; Cressington coaters (not 308 series); Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG - E5000, E5200, E5400, SC502, SC7610, SC7620

Type 3:  Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010,MED020

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